辊对辊式原子层沉积系统

真空设备

辊对辊式原子层沉积系统

Roll to Roll ALD （Roll to Roll Atomic Layer Deposition System）辊对辊式原子层沉积基材尺寸：≤200 mm基材类型：金属膜，塑料薄膜工作温度：≤ 200℃，具体温度可根据工艺和基

产品介绍

Roll to Roll ALD （Roll to Roll Atomic Layer Deposition System）辊对辊式原子层沉积

基材尺寸：≤200 mm

基材类型：金属膜，塑料薄膜

工作温度：≤ 200℃，具体温度可根据工艺和基材选择

走膜速度：0.1～0.5 m/s

前驱体源：最多5路

沉积材料：SiO₂、Al₂O₃、HfO₂、MgO、TiN、TiO₂、ZnO、ZnS等等

薄膜不均匀性：< ± 2 %

设备尺寸：～2.0m (L) x 1.0m (W) x 2.0m (H)

辊对辊式原子层沉积系统

辊对辊式原子层沉积示意图